欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

19842703026

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  化学气相沉积MOCVD

  • 化学气相沉积MOCVD

    化学气相沉积MOCVD 简介: 1. MOCVD设备是通过将反应物质以有机金属化合物气体分子的形式,经载带气体送到反应室,进行热分解反应而生长出薄膜材料 2. 应用方向:Ga2O3,GaN, InP, GaAs, InSb, GaInNAs, II-VI等等 3. 从研发到大规模生产 4. 衬底尺寸:3x2 inch、1x4 inch、1x3 inch、1x2 inch

    更新时间:2024-03-28
    型号:
    厂商性质:经销商
    浏览量:569
共 1 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页