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  • 无掩膜/激光直写光刻机

    无掩膜/激光直写光刻机 参数: 1. 光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器 2. 线宽:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm 3. 光刻效率:可达到3000mm2/min@5μm 4. XY行程:55~205mm 5. 样品尺寸:最小3mm*3mm 最大8 inch 6.应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、先进芯片封装、光通讯

    更新时间:2023-06-09
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    厂商性质:经销商
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