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  • 有掩膜光刻机

    1.手动、半自动、全自动有掩膜光刻机$n2.高分辨率掩模对准光刻,特征尺寸优于0.5微米$n3.基片尺寸可满足4、6、8、12英寸$n4.经过特殊设计,方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料,包括砷化镓和磷化铟$n5.设备可通过选配升级套件,实现紫外纳米压印光刻

    更新时间:2023-09-26
    型号:
    厂商性质:经销商
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  • 无掩膜/激光直写光刻机

    无掩膜/激光直写光刻机 参数: 1. 光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器 2. 线宽:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm 3. 光刻效率:可达到3000mm2/min@5μm 4. XY行程:55~205mm 5. 样品尺寸:最小3mm*3mm 最大8 inch 6.应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、先进芯片封装、光通讯

    更新时间:2023-06-09
    型号:
    厂商性质:经销商
    浏览量:889
  • 步进式Stepper光刻机

    步进式Stepper光刻机产品参数: 1. 解像力:≤350nm 2. 投影倍率:1:5 3. 市场尺寸:20mm*20mm(5inch)/ 22mm*22mm(6inch) 4. 光源:i-Line 365nm 5. 掩膜版尺寸:5inch/6inch(可选)

    更新时间:2023-06-09
    型号:
    厂商性质:经销商
    浏览量:1049
  • 电子束光刻系统

    电子束光刻系统 技术参数: 1.最小线宽≤8nm 光栅周期≤40nm 2.50KV加速电压下,写场可在0.5μm~500μm的范围内连续可调 3.肖特基热场发射电子束源,最高加速电压≥50kv,束电流范围至少为50pA~40nA,最大束电流≥40nA

    更新时间:2023-06-09
    型号:
    厂商性质:经销商
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  • 纳米压印系统

    纳米压印系统 简介:1. 兼容基底尺寸:直径≤100mm2. 支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等3. 纳米压印技术:旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式4. 压印精度:优于10nm5. 结构深宽比:优于10:1

    更新时间:2023-10-23
    型号:
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  • 等离子清洗&去胶机

    等离子清洗&去胶机 产品简介: 1) 用途:材料清洗、材料活化、材料刻蚀、材料涂覆 (2) 80 kHz:功率 1000 或 3000 W (3) 13.56 MHz:功率 0 - 300 W;0 - 600 W;0 - 1000 W (4) Hz:功率 0 - 1200 W (5) 所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型 (6) 圆形不锈钢,带铰链的门(约 φ400 mm,

    更新时间:2023-06-09
    型号:
    厂商性质:经销商
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