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溅射系统

简要描述:iTops PVD AlN 溅射系统
采用托盘形式,可兼容 2/4/6 英寸

  • 产品型号:iTops PVD AlN
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-26
  • 访  问  量: 113

详细介绍

1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。

公司主要业务如下:

装备销售:半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。

设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。

厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。

经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。

2、成长历程

•2020年(公司成立年)

•2300万订单额

2021年 7000万订单额

2022年 2.5亿订单额

2023年3.2亿订单额

iTops PVD AlN 溅射系统

1、采用托盘形式,可兼容 2/4/6 英寸

wafer With tray,2 inch / 4 inch /6 inch wafer compatible

2、工艺温度在 0~700℃之间

Processing temperature can be set between 0 ℃ to 700 ℃

3、占地面积小,结构简单,操作灵活,维修方便

Better footprint, simple structure, flexible operation and easy maintain

4、设备稳定,运营成本低

Reliable performance, lower CoO/CoC


技术参数

1、晶圆尺寸  2/4/6 英寸兼容

2、适用材料  氮化铝

3、适用工艺  氮化铝缓冲层溅射

4、适用领域  化合物半导体





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