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无掩膜/激光直写光刻机

简要描述:无掩膜/激光直写光刻机 参数:1. 光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器
2. 线宽:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm3. 光刻效率:可达到3000mm2/min@5μm4. XY行程:55~205mm5. 样品尺寸:最小3mm*3mm 最大8 inch6.应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、*进芯片封装、光通讯。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-03-29
  • 访  问  量: 1523

详细介绍

一、无掩膜/激光直写光刻机 产品介绍:

1. 光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器

2. 线宽:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm                                                                                        

3. 光刻效率:可达到3000mm2/min@5μm

4. XY行程:55~205mm

5. 样品尺寸:最小3mm*3mm  最大8 inch

6.应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、*进芯片封装、光通讯芯片光刻

二、无掩膜/激光直写光刻机 公司简介:                                  

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

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