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纳米压印系统

简要描述:纳米压印系统 简介:1. 兼容基底尺寸:直径≤100mm2. 支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等3. 纳米压印技术:旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式4. 压印精度:优于10nm5. 结构深宽比:优于10:1

  • 产品型号:GL6 R&D
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 1145

详细介绍

一、产品介绍:

1. 兼容基底尺寸:直径≤100mm

2. 支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等                                                                            

3. 纳米压印技术:旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式

4. 压印精度:优于10nm                                                                                                        

5. 结构深宽比:优于10:1

6. 残余层控制:可小于10nm   微米级TTV控制精度

7. 紫外固化光源:紫外LED(365nm)面光源,光强>300mW/cm2

8. 自动压印/自动脱模/自动工作模具复制/主动找平压印/模自动点胶:支持

9. 模具基底对位系统:手动对位(选配)

10. 上下片方式:手动上下片

二、技术优势:

随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构、微透镜阵列、匀光片结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到国际纳米压印水平。









 

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