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一、有掩膜光刻机 产品介绍：
1. 手动、半自动、全自动有掩膜光刻机
2. 高分辨率掩模对准光刻，特征尺寸优于0.5微米
3. 基片尺寸可满足4、6、8、12英寸
4. 经过特殊设计，方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料，包括砷化镓和磷化铟。
5. 设备可通过选配升级套件，实现紫外纳米压印光刻。
二、企业简介：
深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
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