欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站！
咨询热线

19842703026

当前位置：首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  有掩膜光刻机

产品分类

Product Category

相关文章

Related Articles
  • 有掩膜光刻机
    有掩膜光刻机

    1.手动、半自动、全自动有掩膜光刻机$n2.高分辨率掩模对准光刻，特征尺寸优于0.5微米$n3.基片尺寸可满足4、6、8、12英寸$n4.经过特殊设计，方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料，包括砷化镓和磷化铟$n5.设备可通过选配升级套件，实现紫外纳米压印光刻

    更新时间：2024-03-27
    型号：
    厂商性质：经销商
    浏览量：614
共 1 条记录，当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页