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  • 有掩膜光刻机

    1.手动、半自动、全自动有掩膜光刻机$n2.高分辨率掩模对准光刻,特征尺寸优于0.5微米$n3.基片尺寸可满足4、6、8、12英寸$n4.经过特殊设计,方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料,包括砷化镓和磷化铟$n5.设备可通过选配升级套件,实现紫外纳米压印光刻

    更新时间:2024-03-27
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