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  • 多腔等离子体工艺系统

    多腔等离子体工艺系统-概述:$n1.方案是适用于最大 8 吋晶圆的多腔等离子体沉积/刻蚀工艺系统$n2.系统可用于研发和小批量生产$n3.系统兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圆和不规则碎片;不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔的开腔破真空

    更新时间:2023-10-26
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    厂商性质:经销商
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