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PD-100ST是一种用于研发的低温(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)等离子体增强CVD系统。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100 µm）。PD-100ST具有时尚、紧凑的设计，只需要小的洁净室空间。
更新时间：2024-06-27
型号：PD-100ST
厂商性质：经销商
浏览量：66
PD-330STC是一种低温(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等离子体增强CVD系统，可用于大规模生产。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100 µm）。该系统通过采用大气盒装载和ø300毫米晶圆的优良工艺均匀性，实现了高产量。
更新时间：2024-06-27型号：PD-330STC厂商性质：经销商浏览量：72
PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到厚的薄膜（高达100μm）。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计，只需要小的洁净室空间。
更新时间：2024-06-27型号：PD-200STL厂商性质：经销商浏览量：67
等离子增强化学气相沉积PECVD(1) 应用方向：高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途；用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀(2) 电阻丝加热电极，最高温度可达400°C或1200°C(3) 实时监测清洗工艺， 并且可自动停止工艺(4) 晶圆最大可达200mm，可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆。
更新时间：2024-03-28型号：厂商性质：经销商浏览量：473
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