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半导体前道工艺设备
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步进式Stepper光刻机产品参数: 1. 解像力:≤350nm 2. 投影倍率:1:5 3. 市场尺寸:20mm*20mm(5inch)/ 22mm*22mm(6inch) 4. 光源:i-Line 365nm 5. 掩膜版尺寸:5inch/6inch(可选)
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