19842703026
当前位置:首页 > 产品中心 > 半导体前道工艺设备 > 离子注入机
产品分类
半导体前道工艺设备
查看全部产品
相关文章
离子注入机 参数: 1. 单价离子最大加速能量≥200keV,并增加减速系统实现单价离子在5keV~200keV的能量范围 2. 可用于2、3、4、6、8英寸晶圆以及不规则碎片 3. 可注入B、P、As、Al、S、H、Mg、Si离子 4. 注入剂量精准度≤1.5%
在线咨询
电话
微信扫一扫
返回顶部