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离子注入机

简要描述:离子注入机 参数:
1. 单价离子最大加速能量≥200keV,并增加减速系统实现单价离子在5keV~200keV的能量范围
2. 可用于2、3、4、6、8英寸晶圆以及不规则碎片
3. 可注入B、P、As、Al、S、H、Mg、Si离子
4. 注入剂量精准度≤1.5%

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-03-28
  • 访  问  量: 862

详细介绍

一、离子注入机 产品介绍:

1. 单价离子最大加速能量≥200keV,并增加减速系统实现单价离子在5keV~200keV的能量范围

2. 可用于2、3、4、6、8英寸晶圆以及不规则碎片

3. 可注入B、P、As、Al、S、H、Mg、Si离子

4. 注入剂量精准度≤1.5%

5. 离子注入剂量范围:1×1011 at/cm2~1×1016 at/cm2

6. 离子源部分:离子源、离子源气体系统和离子源引出系统

7. 离子源系统搭载5套从固体蒸发源产生离子的Vaporizer,温度达700℃,实现固态源的离子注入

8. 离子注入倾斜角度在0°和7°

9. 室温台:0°和7°;高温台:0°

10. 真空度:

Ion Source真空度:≤7×10-4Pa

Beam Line真空度:≤7×10-5Pa

End Station真空度:≤7×10-5Pa

二、离子注入机 产品结构

1. 束流调整系统主要包括:质量分析器、束流汇聚系统、加速系统、扫描系统、束流检测和高压绝缘变压器。

2. 真空系统主要包括:Ion Source真空系统、Beam Line真空系统、End Station真空系统、真空系统中的真空管件和阀门以及真空检测单元。

三、企业介绍:

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。


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