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  • GNP POLI-PCB系列CMP

    G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要运用于研发,操作简单,成本低。

    更新时间:2024-09-04
    型号:GNP POLI-PCB系列
    厂商性质:经销商
    浏览量:218
  • GNP POLI-610CMP

    GnP POLI-610专为蓝宝石等复合晶圆的CMP工艺开发而设计。特别是该系统对于晶圆工艺开发具有较低的拥有成本,材料评估和生产前运行。

    更新时间:2024-09-04
    型号:GNP POLI-610
    厂商性质:经销商
    浏览量:185
  • GNP POLI系列CMP

    GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工艺而开发,也为先进晶圆制造商和耗材供应商设计的。 GNP POLI-500广泛用于耗材供应商,衬底制造商和芯片开发商的8“(200mm)高级研发评估。 GNP POLI-400L是专为先进的化学机械抛光工艺开发应用,如MEMS, as以及化学机械抛光特性研究。该系统拥有成本低,占地面积小。

    更新时间:2024-09-05
    型号:GNP POLI系列
    厂商性质:经销商
    浏览量:304
  • GNP GPC-300A全自动CMP晶圆清洗一体机

    韩国G&P的全自动CMP晶圆清洗一体机是一台可以自动抛光和清洁300毫米晶圆的机器。

    更新时间:2024-09-05
    型号:GNP GPC-300A
    厂商性质:经销商
    浏览量:168
  • POLI-762CMP抛光机

    POLI-762是小型12英寸CMP机台,采用手动装片方式,可选配半自动loading托盘,气囊薄膜柔性加压,可配置摩擦力&温度终点监控系统,用于氧化物、金属、STI、SOI、MEMS等产品的平坦化抛光,应用广泛。

    更新时间:2024-09-06
    型号:POLI-762
    厂商性质:经销商
    浏览量:188
  • POLI-500CMP抛光机

    POLI-500是小型8英寸CMP机台,采用手动装片方式,可选配半自动loading托盘,气囊薄膜柔性加压,可配置摩擦力&温度终点监控系统,用于氧化物、金属、STI、SOI、MEMS等产品的平坦化抛光,应用广泛。如有需要半导体设备和进口半导体设备的朋友欢迎电话咨询我们!

    更新时间:2024-09-06
    型号:POLI-500
    厂商性质:经销商
    浏览量:419
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