详细介绍
1. 产品概述
PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(>300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源,以低应力沉积SiO2薄膜,从薄膜到厚的薄膜(高达100μm)。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计,只需要小的洁净室空间。
2. 设备用途/原理
塑料材料上保护膜的沉积在3D LSI的通孔侧壁上沉积绝缘膜。光波导的制造(光纤芯/包层)。制造用于微型机械生产的面罩。覆盖高纵横比结构,如MEMS器件。SAW设备的温度补偿膜和钝化膜。
3. 设备特点
加工范围达Ø200毫米(8")。阴耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速(>300nm/min)沉积。通过低温沉积,可以在塑料表面上沉积薄膜。高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率,使用锗、磷、硼液源控制折射率。PD-200STL设计时尚、紧凑,只需要小的洁净室空间。
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