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等离子体增强型CVD系统

简要描述:PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(>300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源,以低应力沉积SiO2薄膜,从薄膜到厚的薄膜(高达100μm)。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计,只需要小的洁净室空间。

  • 产品型号:PD-200STL
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 184

详细介绍

1. 产品概述

PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(>300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源,以低应力沉积SiO2薄膜,从薄膜到厚的薄膜(高达100μm)。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计,只需要小的洁净室空间。

2. 设备用途/原理

塑料材料上保护膜的沉积在3D LSI的通孔侧壁上沉积绝缘膜。光波导的制造(光纤芯/包层)。制造用于微型机械生产的面罩。覆盖高纵横比结构,如MEMS器件。SAW设备的温度补偿膜和钝化膜。

3. 设备特点

加工范围达Ø200毫米(8")。阴耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速(>300nm/min)沉积。通过低温沉积,可以在塑料表面上沉积薄膜。高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率使用锗、磷、硼液源控制折射率PD-200STL设计时尚、紧凑,只需要小的洁净室空间。


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