欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

19842703026

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  化学气相沉积MOCVD  >  AL-1无针孔薄膜沉积设备

无针孔薄膜沉积设备

简要描述:AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量。此外,可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø4英寸的晶片。

  • 产品型号:AL-1
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 62

详细介绍

热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积

AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量。此外,可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø4英寸的晶片。

主要特点和优点

  • 成膜效率高
    通过提供几十毫量的脉冲,减少了原材料的损耗,提高了沉积效率。

  • 真空清洁,温度不均匀性小
    通过紧贴反应室内壁的内壁加热器,抑制反应室的温度不均匀,可获得清洁的真空。

  • 无针孔成膜
    由于多种驱体在反应室中没有混合,因此可以防止颗粒,形成无针孔的薄膜。

应用

  • 用于下一代功率器件的栅氧化膜和钝化膜。

  • 在3D结构上形成均匀的薄膜,如MEMS。

  • 激光表面的沉积

  • 碳纳米管的钝化膜




产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7