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化学气相沉积 (PECVD) 系统

简要描述:PD-220NL 是一种负载锁定等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统,能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。
该系统以非常紧凑的占地面积提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜,并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。该系统是研发用薄膜沉积以及试生产的理想选择。

  • 产品型号:PD-220NL
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 70

详细介绍

1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额

等离子体增强型CVD设备 PD-220NL

紧凑的研发用负载锁定系统


概要

PD-220NL 是一种负载锁定等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统,能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。
该系统以非常紧凑的占地面积提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜,并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。该系统是研发用薄膜沉积以及试生产的理想选择。

主要特点和优点

  • 大加工范围:ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)

  • 优异的均匀性和应力控制

  • 工艺稳定性和可重复性

  • 坚固的系统,低的运行/维护成本

  • 用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。

  • PD-220NL设计时尚、紧凑,只需小的洁净室空间。

  • 双频(13.56 MHz + 400 kHz)PECVD,用于过程控制。

应用

  • SiH4-SiNx
    SiH4-SiO2
    液体驱体(SN-2)SiNx。
    TEOS-SiO2





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