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化学气相沉积系统

简要描述:PD-3800L 化学气相沉积系统是一种能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的锁载等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统。该系统由于采用了大型反应室,并通过载盘装载多片晶圆进行批量处理,因此产量较高。在直径360mm的区域内可以沉积出具有优异的厚度均匀性和应力控制的薄膜,具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面用于参数控制和配方存储。

  • 产品型号:PD-3800L
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 189

详细介绍

1. 产品概述

PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的锁载等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统。该系统由于采用了大型反应室,并通过载盘装载多片晶圆进行批量处理,因此产量较高。在直径360mm的区域内可以沉积出具有优异的厚度均匀性和应力控制的薄膜,具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择,具有优异的重复性。

2. 设备用途/原理

SiH4-SiNxSiH4-SiO2液体驱体(SN-2)SiNx。TEOS-SiO2

3. 设备特点

大加工范围:ø360 mm (ø3" x 9, ø4" x 6, ø6" x 3)优异的均匀性和应力控制工艺稳定性和可重复性坚固的系统,低的运行/维护成本用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。


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