多腔等离子体工艺系统 多腔等离子体刻蚀系统 CIF透射电镜样品杆存储仪 CIF烤胶机 CIF匀胶机 CIF臭氧中和器 CIF紫外臭氧清洗机 CIF扫描电镜等离子清洗机 CIF手套箱专用等离子清洗机 CIF透射电镜样品杆清洗机 CIF等离子去胶机 RIE反应离子刻蚀机 3.CIF 生产型等离子清洗机 CIF 实验室型等离子清洗机2 CIF 实验室型等离子清洗机 刻蚀机终点检测系统 有掩膜光刻机 无掩膜/激光直写光刻机 步进式Stepper光刻机 电子束光刻系统 纳米压印系统 喷涂胶机 实验型匀胶机 充氮型程控烤胶机 等离子清洗&去胶机 槽式湿法刻蚀清洗设备 电镀设备 磁控溅射镀膜机Sputter 热蒸发镀膜机Thermal Evaporation 镀膜机 原子层沉积ALD 等离子增强化学气相沉积PECVD 电感耦合等离子体刻蚀ICP 反应性离子刻蚀系统RIE 离子束刻蚀系统IBE 深硅刻蚀系统DEEP SI ETCH 化学气相沉积MOCVD 分子束外延薄膜沉积系统MBE 离子注入机 快速退火炉RTP 激光退火设备 化学机械抛光机CMP CMP后清洗机 划片机 减薄机 半导体研磨抛光机 中央供药系统 晶圆甩干机 全自动SCRUBBER清洗机 低压化学气相沉积系统LPCVD