TCO激光划线设备ULT-1400 本设备通过近红外脉冲激光烧蚀法除去玻璃基板上成膜的透明电（TCO）膜，是一种枚用式激光划线设备。本设备由6个IR激光法阵器和光学系统、Bridge式XY平台（X轴：下轴、Y轴：上轴）、基板搬送机构、集尘机、激光测定机构和控制系统构成。采用光纤激光和花岗岩平台，可实现高精度高稳定性。

批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300批处理式自然氧化膜去除设备RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等难以去除的自然氧化膜的批处理式预清洗装置。可处理200mm，300mm尺寸晶圆。

对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700 对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子）

干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX 对应LED量产用的干法刻蚀设备｢NE-950EX｣相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科自有的星型电的干法刻蚀设备。

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570 研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。

高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H 高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。