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  • Orion Proxima高密度等离子体化学气相沉积系统

    Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统 填孔能力以及高沉积速率

    更新时间:2024-06-26
    型号:Orion Proxima
    厂商性质:经销商
    浏览量:94
  • EPEE系列等离子 化学气相沉积系统

    EPEE系列 等离子化学气相沉积系统 单片和多片式架构,满足量产和研发客户需求 Advanced single-chip and multi-chip design, meet the needs of mass production and R&D

    更新时间:2024-06-26
    型号:EPEE系列
    厂商性质:经销商
    浏览量:112
  • Polaris系列12英寸通用物理气相沉积系统

    Polaris系列 12英寸通用物理气相沉积系统 磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率

    更新时间:2024-06-26
    型号:Polaris系列
    厂商性质:经销商
    浏览量:101
  • Polaris系列8英寸 通用物理气相沉积系统

    Polaris系列 8英寸通用物理气相沉积系统 多种材料膜层工艺能力,低损伤,高深宽比填充能力

    更新时间:2024-06-26
    型号:Polaris系列
    厂商性质:经销商
    浏览量:106
  • eVictor Al PVD铝物理气相沉积系统

    eVictor Al PVD 铝物理气相沉积系统 先进的磁控溅射系统,有效提高薄膜均匀性及靶材利用率

    更新时间:2024-06-26
    型号:eVictor Al PVD
    厂商性质:经销商
    浏览量:125
  • HORIC L200 系列卧式 LPCVD  气相沉积系统

    HORIC L200 系列 卧式 LPCVD 系统 半导体客户端机台装机量大

    更新时间:2024-06-26
    型号:HORIC L200 系列
    厂商性质:经销商
    浏览量:104
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