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  • NLD-5700干法刻蚀装置

    对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700 对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子)

    更新时间:2024-06-28
    型号:NLD-5700
    厂商性质:经销商
    浏览量:121
  • APIOS NE-950EX干法刻蚀设备

    干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX 对应LED量产用的干法刻蚀设备「NE-950EX」相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科自有的星型电的干法刻蚀设备。

    更新时间:2024-06-28
    型号:APIOS NE-950EX
    厂商性质:经销商
    浏览量:108
  • NLD-570NLD干法刻蚀设备

    研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570 研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的装置,此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。

    更新时间:2024-06-28
    型号:NLD-570
    厂商性质:经销商
    浏览量:114
  • ULHITETM NE-7800H高密度等离子刻蚀装置

    高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H 高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料(强电介质层、贵金属、磁性膜等)的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。

    更新时间:2024-06-28
    型号:ULHITETM NE-7800H
    厂商性质:经销商
    浏览量:112
  • NE-5700/NE-7800刻蚀设备

    量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800 量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。

    更新时间:2024-06-28
    型号:NE-5700/NE-7800
    厂商性质:经销商
    浏览量:118
  • ELEDE® 380系列芯片刻蚀机

    ELEDE® 380系列 芯片刻蚀机 先进的等离子体发生装置,适用多种材料刻蚀,工艺窗口宽

    更新时间:2024-06-26
    型号:ELEDE® 380系列
    厂商性质:经销商
    浏览量:102
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