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  • 半导体烘箱

    半导体烘箱 参数: 1.高性能无氧烘箱能够在氧气浓度低至500 ppm 的气氛中,加热高达 500℃ 的温度,并对材料进行热处理。非常适合各类退火,退应力,和各类抗氧化热处理 2.含氧控制:500PPM以内 3.温度范围:Room temp. +20~500℃ 4.控温精度:±1.0℃ 5.温度均匀性:±2.5%℃ 6.升温时间:RT~ 500℃≤60min 7.容量:可定制

    更新时间:2023-06-07
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    厂商性质:经销商
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