ACS300 Gen3作为模块化系统，是为满足量产环境而专门设计的。它提供了复杂的涂胶、显影和烘烤功能，可轻松地适应各种工艺。其的工艺控制，有效地支持广泛的使用领域。结合这一优点，再加上有8个旋涂器模块，该系统仍然是市面上占地面积最小的系统；这些品质都有利于减小购置成本，使得该设备对于任何具有挑战性的先进封装应用(如圆片级芯片封装、扇出圆片级封装、铜柱倒装芯片封装和3D封装)

掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自动处理系统满足下一代光刻节点在掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准。它是应对 193i 1x half-pitch DPT、极紫外光刻 (EUVL) 和纳米压印光刻 (NIL)高要求的创新解决方案。以创新技术最大限度地提高光掩模性能。 MaskTrack Pro 允许用第三方的产品扩展工具集群，并提供一个全面的方法

对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700 对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子）

干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX 对应LED量产用的干法刻蚀设备｢NE-950EX｣相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科自有的星型电的干法刻蚀设备。

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570 研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。

高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H 高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。