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RIE等离子刻蚀设备

简要描述:RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统,适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆(ø3“×12,ø4“×8等),具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减少工厂空间需求,提高产量,大限度地延长正常运行时间,并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。

  • 产品型号:RIE-300NR
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 68

详细介绍

1、公司介绍
深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额


 ø300毫米RIE等离子蚀刻设备 RIE-300NR大可达ø300 mm(12")

概要

RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统,适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆(ø3"×12,ø4"×8等),具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减少工厂空间需求,提高产量,大限度地延长正常运行时间,并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。

主要特点和优点

 

 

  • 大加工范围:ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)

  • 用户友好的触摸屏界面

  • 全自动 "一键式 "操作,可手动操作。

  • 优化的喷淋头可提供工艺气体的均匀性。

  • 减少停留时间的近距离耦合气体输送箱。

  • 对称的疏散设计与TMP相结合,形成了有效的流动。

  • 自动压力控制,可精确控制工艺压力,不受气体流量影响。

  • 干式泵和系统布局便于维护。

应用

    • 去除夹层膜,用于ø300mm的失效分析。

    • 蚀刻Si、SiO2、SiN和聚硅氧烷。

    • 树脂的蚀刻和脱胶

    • 光阻剂的灰化、剥离和除尘。

    • 表面改性(润湿性和粘附性的改善


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