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RIE等离子刻蚀设备

简要描述:RIE-300NR是一种理想的RIE等离子刻蚀设备,适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆(ø3“×12,ø4“×8等),具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减少工厂空间需求,提高产量,大限度地延长正常运行时间,并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。

  • 产品型号:RIE-300NR
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 173

详细介绍

1. 产品概述

RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统,适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆(ø3"×12,ø4"×8等),具有优异的均匀性。该系统的设计旨在大限度地减少工厂空间需求,提高产量,大限度地延长正常运行时间,并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。

2. 设备用途/原理

去除夹层膜,用于ø300mm的失效分析。蚀刻Si、SiO2、SiN和聚硅氧烷。树脂的蚀刻和脱胶光阻剂的灰化、剥离和除尘。表面改性(润湿性和粘附性的改善

3. 设备特点

大加工范围:ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)用户友好的触摸屏界面全自动 "一键式 "操作,可手动操作。优化的喷淋头可提供工艺气体的均匀性。减少停留时间的近距离耦合气体输送箱。对称的疏散设计与TMP相结合,形成了有效的流动。自动压力控制,可精确控制工艺压力,不受气体流量影响。干式泵和系统布局便于维护。


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