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RIE等离子刻蚀设备

简要描述：RIE-200C RIE等离子刻蚀设备是在拥有丰富交货业绩的CCP RIE系统 “RIE-10NR “的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜进行高精度蚀刻和灰化。采用双盒双臂机械手，PLC控制全自动操作，高性能存储工艺参数，实现了高产量。

  • 产品型号：RIE-200C
  • 厂商性质：经销商
  • 更新时间：2024-09-06
  • 访  问  量： 155
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1. 产品概述

RIE-200C是在拥有丰富交货业绩的CCP RIE系统 "RIE-10NR "的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜进行高精度蚀刻和灰化。采用双盒双臂机械手，PLC控制全自动操作，高性能存储工艺参数，实现了高产量。

2. 设备用途/原理

Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜的高精度蚀刻。光阻剂的灰化、剥离、除尘，清除有机污染物。

3. 设备特点

大气高速传输系统，该系统配备了一个大气盒室和一个大气传输机器人，而不是通常的装载锁定室。它可以处理大ø8 "晶圆的自动加工，并且可以安装在两个盒式箱中。全自动操作，通过触摸屏可实现全自动操作，通过PLC控制可实现过程管理和数据记录。


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