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RIE等离子刻蚀设备

简要描述:RIE-200C是在拥有丰富交货业绩的CCP RIE系统 “RIE-10NR “的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜进行高精度蚀刻和灰化。采用双盒双臂机械手,PLC控制全自动操作,高性能存储工艺参数,实现了高产量。

  • 产品型号:RIE-200C
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 71

详细介绍

 1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额


装入卡带 RIE等离子蚀刻设备 RIE-200C高吞吐量

概要

RIE-200C是在拥有丰富交货业绩的CCP RIE系统 "RIE-10NR "的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜进行高精度蚀刻和灰化。采用双盒双臂机械手,PLC控制全自动操作,高性能存储工艺参数,实现了高产量。

主要特点和优点

 

 

  • 大气高速传输系统

  •  该系统配备了一个大气盒室和一个大气传输机器人,而不是通常的装载锁定室。它可以处理大ø8 "晶圆的自动加工,并且可以安装在两个盒式箱中。

  • 全自动操作

  •  通过触摸屏可实现全自动操作,通过PLC控制可实现过程管理和数据记录

应用

    • Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜的高精度蚀刻。

    • 光阻剂的灰化、剥离、除尘

    • 清除有机污染物


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