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RIE等离子刻蚀系统

简要描述:RIE-200NL是一种负载锁定型的反应离子蚀刻系统,它提高了工艺的可重复性,并允许腐蚀性气体化学。优化的工艺室设计可在ø8 “晶圆或ø220mm小晶圆的载盘上提供优异的均匀性。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。RIE-200NL设计时尚、紧凑,只需小的洁净室空间。

  • 产品型号:RIE-200NL
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 70

详细介绍

 1、公司介绍
深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额


 RIE等离子蚀刻系统 RIE-200NL

重复性和稳定性

概要

RIE-200NL是一种负载锁定型的反应离子蚀刻系统,它提高了工艺的可重复性,并允许腐蚀性气体化学。优化的工艺室设计可在ø8 "晶圆或ø220mm小晶圆的载盘上提供优异的均匀性。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。RIE-200NL设计时尚、紧凑,只需小的洁净室空间。

主要特点和优点

 

 

  • 大加工范围:ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)

  • 对称的排空设计提高了蚀刻的均匀性。

  • 工艺室通过负荷锁定室与环境隔离,提高了工艺的可重复性,并可进行腐蚀性气体的化学反应。

  • 计算机触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。

  • 自动压力控制,可精确控制工艺压力,不受气体流量影响。

  • 干式泵和系统布局便于维护。

  • RIE-200NL设计时尚、紧凑,只需小的洁净室空间

应用

    • GaN、GaAs、InP等化合物半导体的氯基蚀刻。

    • 各种材料的蚀刻,如Si、SiO2、SiN、Poly-Si、Al、Mo、Pt、Polyimide等。

    • 故障分析中的选择性层蚀刻


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