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8英寸 通用物理气相沉积系统

简要描述:Polaris系列8英寸 通用物理气相沉积系统,多种材料膜层工艺能力,低损伤,高深宽比填充能力。

  • 产品型号:Polaris系列
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 193

详细介绍

1. 产品概述

Polaris系列 8英寸通用物理气相沉积系统

2. 设备用途/原理

Polaris系列 8英寸通用物理气相沉积系统多种材料膜层工艺能力,低损伤,高深宽比填充能力独立工艺腔室,多可支持 6 个工艺模块优异的温度,颗粒控制能力配置灵活、大产能、低运营成本

3. 设备特点

晶圆尺寸 6、8 英寸适用材料 银、钨化钛、金、铂、钛、氮化钛、铝、铬等适用工艺 倒装工艺、金属电等适用域 新兴应用、科研、化合物半导体。物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术, 物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。


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