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12英寸通用物理气相沉积系统

简要描述:Polaris系列 12英寸通用物理气相沉积系统,磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率。

  • 产品型号:Polaris系列
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 201

详细介绍

1. 产品概述

Polaris系列 12英寸通用物理气相沉积系统,磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率。

2. 设备用途/原理

Polaris系列 12英寸通用物理气相沉积系统磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率灵活的腔室配置针对先进封装域优化、稳定的传输系统,兼容玻璃片、翘曲片、键合片等多种类型基片传输稳定并且低的Rc表现,良好的颗粒和应力控制能力优化的工艺流程带来大产能表现,低运营成本

3. 设备特点

晶圆尺寸 12英寸适用材料 铜、钛、氮化钛、钽、氮化钽、钨化钛、金、铝等适用工艺 电、先进封装中的UBM/RDL适用域 新兴应用、先进封装


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