欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

19842703026

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  3 CVD  >  Orion Proxima高密度等离子体化学气相沉积系统

高密度等离子体化学气相沉积系统

简要描述:Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统。

  • 产品型号:Orion Proxima
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 204

详细介绍

1. 产品概述

Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统

2. 设备用途/原理

Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统填孔能力以及高沉积速率温度场和 ICP 电磁场设计保证了低温高致密的膜质表现优化机台结构,缩小占地面积友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效

3. 设备特点

晶圆尺寸 12 英寸适用材料氧化硅适用工艺浅沟槽隔离、金属间介质层、钝化层适用域 新兴应用、集成电路。等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。按产生等离子体的方法,分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等。

产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7