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多功能刻蚀机

简要描述:GSE C200 多功能刻蚀机
等离子体源设计,保证良好的刻蚀均匀性

  • 产品型号:GSE C200
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-26
  • 访  问  量: 100

详细介绍

GSE C200 多功能刻蚀机

1、等离子体源设计,保证良好的刻蚀均匀性

Unequal plasma Source Design ensures good Uniformity

2、 适用于滤波、光电、功率等多个应用领域的多种材料刻蚀与失效分析

Applicable for multiple materials etch in the fields of filtering, optoelectronics, Power and failure analysis

3、 刻蚀材料种类覆盖硅、氮化硅、氧化硅、锑化镓、聚酰亚胺、铌、金属、有机物等

Etched materials include Si, SiN, SiO2, GaSb, PI, Nb, Metal, Polymer, etc.

4、提供研发所需的丰富的工艺数据库支持

Provide comprehensive technical database support for R&D


技术参数 Technical Parameters

1、晶圆尺寸 8 英寸及以下

2、适用材料 硅、氧化硅、氮化硅、氮化镓、金属、有机物等

3、适用工艺 多种材料刻蚀工艺

4、适用领域 科研



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