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离子束刻蚀系统IBE

简要描述:离子束刻蚀系统IBE 的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

  • 产品型号:Ionfab 300 IBE
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 843

详细介绍

1. 产品概述

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果百科:‌离子束刻蚀系统(IBE)是一种物理刻蚀技术,利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子,并通过阳极电场加速的离子束对样品表面进行物理轰击,以达到刻蚀的目的。‌离子束刻蚀(IBE),也称为离子铣(Ion Beam Milling),是一种具有强方向性的物理刻蚀机理,能够产生各向异性刻蚀,适用于小尺寸图形的加工。

2. 设备特点

磁阻式随机存取存储器(MRAM);

介电薄膜

III-V族光电子材料刻蚀

自旋电子学

金属电极和轨道

超导体

激光端面镀膜

高反射(HR)膜

防反射(AR)膜

环形激光陀螺反射镜

X射线光学系统

红外(IR)传感器

II-VI族材料

通信滤波器

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