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离子束刻蚀系统IBE

简要描述:离子束刻蚀系统IBE 的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2023-06-09
  • 访  问  量: 484

详细介绍

一、离子束刻蚀系统IBE 产品介绍:

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

(1) 磁阻式随机存取存储器(MRAM)                                                                    

(2) 介电薄膜

(3) III-V族光电子材料刻蚀

(4) 自旋电子学

(5) 金属电极和轨道

(6) 超导体

(7) 激光端面镀膜

(8) 高反射(HR)膜

(9) 防反射(AR)膜

(10) 环形激光陀螺反射镜

(11) X射线光学系统

(12) 红外(IR)传感器

(13) II-VI族材料

(14)通信滤波器

二、离子束刻蚀系统IBE 企业简介:

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。




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