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紫外线臭氧清洗设备

简要描述:UV-300HC是一款高性能的盒式装载UV臭氧清洗机,用于生产。这个行业先的系统有2个装载盒,可以达到200-300nm/min的高灰化率。该系统利用紫外线照射、高浓度臭氧和可控阶段加热的组合,温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。

  • 产品型号:UV-300HC
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 105

详细介绍

 1、公司介绍
深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额





盒式装载紫外线臭氧清洗设备 UV-300HC

双盒式生产系统

概要


UV-300HC是一款高性能的盒式装载UV臭氧清洗机,用于生产。这个行业先的系统有2个装载盒,可以达到200-300nm/min的高灰化率。该系统利用紫外线照射、高浓度臭氧和可控阶段加热的组合,温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。

主要特点和优点

    • 大加工尺寸为ø240 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)

    • 200 - 300 nm/min的高灰化率。

    • 加热阶段加快了清洗速度,实现了宽广的工艺温度范围。

    • 通过调整平台和石英扩散板之间的间隙,可以提高基板的均匀性。

    • 紧凑,使用小的洁净室空间

    • 简单,在大气压下操作--不需要真空系统。

    • 柔软、干燥的工艺不会对基材造成电损伤。

    • 内置臭氧催化剂装置,可将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。

应用

  • 塑料包装和引线框架的表面清洁

  • 复合半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)的表面清洗

  • 表面改性(润湿性和附着力的改善

  • 表面氧化(薄氧化层沉积)

  • 光阻剂的灰化、剥离和除尘

  • 清除有机污染物

  • 紫外线固化

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