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等离子体(ICP)刻蚀设备

简要描述:RIE-400iP是用于ø4 “晶圆的负载锁定型蚀刻系统,可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式,可产生均匀、高密度的等离子体。另外,可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。

  • 产品型号:RIE-400iP
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 59

详细介绍

1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额


ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iP

for III-V semiconductors (GaN, GaAs, InP)

 

概要

RIE-400iP是用于ø4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统,可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式,可产生均匀、高密度的等离子体。另外,可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。

主要特点和优点

 

 

  • 新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"

  •  可高效稳定地应用高射频功率(2千瓦以上),并实现良好的均匀性。

  • 大流量排气系统

  •  排气系统直接连接到反应室,可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。

  • 端点监测

  •  干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。

  • 易于维护的设计

  •  TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中,便于更换

应用

  •  

    GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度蚀刻。生产半导体激光器和光子晶体。

  • 选项

  • 干涉式端点监测器 可进行高精度的端点检测,并可将蚀刻深度控制在所需深度。


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