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等离子体(ICP)刻蚀设备

简要描述:RIE-350iPC是一种盒式装载电感耦合等离子体(ICP)蚀刻设备,可处理多达ø350毫米的载盘,用于多晶圆批量处理。
该系统为各种蚀刻应用提供了坚固可靠的硬件和工艺控制,具有较高的生产率,如功率器件、微型LED、VCSEL、LD、电容器和射频滤波器。

  • 产品型号:RIE-350iPC
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 49

详细介绍

1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额


ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-350iPC

大ø350毫米的托架

 

概要

RIE-350iPC是一种盒式装载电感耦合等离子体(ICP)蚀刻设备,可处理多达ø350毫米的载盘,用于多晶圆批量处理。
该系统为各种蚀刻应用提供了坚固可靠的硬件和工艺控制,具有较高的生产率,如功率器件、微型LED、VCSEL、LD、电容器和射频滤波器。

主要特点和优点

 

 

  • 大加工范围:ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)

  • 先进的ICP源HSTC™(Hyper Symmetrical Tornado Coil)能有效地提供均匀的高密度等离子体,并在大面积上具有优异的蚀刻均匀性。

  • 对称的疏散设计与TMP相结合,形成了高效的流动。

  • 优化的气体歧管,提供工艺气体的均匀性。

  • 可选的光学/干涉式端点检测系统可实现对多个工艺运行的精确蚀刻深度控制。

应用

  • GaN、GaAs、InP和SiC的高精度蚀刻

  • SiN和SiO2的蚀刻

  • 电介质和金属的蚀刻

  • 用于HBLED的PSS(图案化蓝宝石衬底)加工


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