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卧式 LPCVD 气相沉积系统

简要描述:HORIC L200 系列 卧式 LPCVD 气相沉积系统,半导体客户端机台装机量大,可根据客户需求配置多工艺组合的机台.可提供先进成熟的 MES 系统解决方案.优异的工艺技术支持。

  • 产品型号:HORIC L200 系列
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 322

详细介绍

1. 产品概述

HORIC L200 系列 卧式 LPCVD  气相沉积系统,半导体客户端机台装机量大,可根据客户需求配置多工艺组合的机台可提供先进成熟的 MES 系统解决方案.优异的工艺技术支持。

2. 设备用途/原理

HORIC L200 系列 卧式 LPCVD 系统半导体客户端机台装机量大可根据客户需求配置多工艺组合的机台高可靠性、稳定性 Higher reliability and stability安全性能高:设备及所使用的元件符合国标和国际标准可提供先进成熟的 MES 系统解决方案优异的工艺技术支持

3. 设备特点

晶圆尺寸 4、6、8 英寸适用材料硅、碳化硅、硅基氮化镓适用工艺  氮化硅、氧化硅、多晶硅、掺杂多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃适用域  科研、化合物半导体


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