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12英寸减压选择性外延系统

简要描述:Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸减压选择性外延系统

多区红外加热协同激光微区补偿,温场均匀可控

  • 产品型号:Hesper Ⅱ E630R plus
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-26
  • 访  问  量: 78

详细介绍

1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。

公司主要业务如下:

装备销售:半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。

设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。

厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。

经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。

2、成长历程

•2020年(公司成立年)

•2300万订单额

2021年 7000万订单额

2022年 2.5亿订单额

2023年3.2亿订单额


Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸减压选择性外延系统

1、多区红外加热协同激光微区补偿,温场均匀可控

Multi-zone infrared heating coordinated with laser micro-zone compensation, the temperature field is uniform and controllable

2、高精度温控系统设计,工艺稳定性及重复性可控优良

High precision temperature control system design, excellent process stability and repeatability

3、主、辅助、交叉气路配合气流场设计及优良的压力控制系统,气流场均匀可控

The main, auxiliary and cross gasline combined with unique flow field design and excellent pressure control system, the flow field is uniform and controllable

4、高效传输Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸减压选择性外延系统

1、多区红外加热协同激光微区补偿,温场均匀可控 算法,腔室利用率 >99.8%

Efficient transmission algorithm, chamber utilization >99.8%


技术参数 Technical Parameters

1、晶圆尺寸 12 英寸

Wafer size 12"

2、 适用材料 硅

Applicable material Si

3、适用工艺 锗硅、磷硅、硅选择性减压外延

Applicable process SiGe, SiP, Si reduced pressure selective epitaxy

4、适用领域 科研、集成电路

Applied field R&D, IC




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