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8英寸单片常压/减压硅外延系统

简要描述:Esther/Eris 系列 8英寸单片常压/减压硅外延系统
传输系统和工艺模块设计可兼容多种工艺用途
友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效
具有单腔和多腔两种机型,可满足不同客户需求

  • 产品型号:Esther/Eris 系列
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-26
  • 访  问  量: 60

详细介绍

1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。

公司主要业务如下:

装备销售:半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。

设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。

厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。

经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。

2、成长历程

•2020年(公司成立年)

•2300万订单额

2021年 7000万订单额

2022年 2.5亿订单额

2023年3.2亿订单额


Esther/Eris 系列 8英寸单片常压/减压硅外延系统

1、Esther/Eris 系列 8英寸单片常压/减压硅外延系统

Advanced infrared temperature control technology and heating module design to obtain epitaxial film with high quality

2、传输系统和工艺模块设计可兼容多种工艺用途

Unique transfer system and process module compatible with multiple processes

3、友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效

User-friendly interface and security designed to ensure the system stability, safety and efficiency

4、具有单腔和多腔两种机型,可满足不同客户需求

Single/mulit-chamber system meet different requirement


技术参数 Technical Parameters

1、晶圆尺寸 6、8 英寸

Wafer size 6" 8"

2、适用材料 硅

Applicable material Si

3、适用工艺 常压:N&P 常压硅外延

Applicable process AP:N&P type atmospheric Si epitaxy

4、 减压:埋层外延、选择性外延、多晶外延

RP:Buried layer epitaxy, Selective epitaxy, Polycrystalline epitaxy

5、适用领域 科研、集成电路

Applied field R&D, IC




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