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反应性离子刻蚀系统RIE

简要描述:反应性离子刻蚀系统RIE 产品概述:
1. 可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺
2. 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆,快速更换到不同尺寸的晶圆工艺
3. 电极的适用温度范围宽,-150°C至400°C
4. 应用方向
(1) III-V族材料刻蚀工艺
(2) 固体激光器 InP刻蚀
(3) VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
(4) 射频器件低损伤 GaN刻蚀

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2023-06-09
  • 访  问  量: 485

详细介绍

一、反应性离子刻蚀系统RIE 产品介绍:

1. 可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺

2. 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆,快速更换到不同尺寸的晶圆工艺

3. 电极的适用温度范围宽,-150°C至400°C

二、反应性离子刻蚀系统RIE 应用方向:

  (1) III-V族材料刻蚀工艺

  (2) 固体激光器 InP刻蚀

  (3) VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀

  (4) 射频器件低损伤 GaN刻蚀

  (5) 类金刚石 (DLC) 沉积

  (6) 二氧化硅和石英刻蚀

  (7) 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀。

三、企业简介:

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。        





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