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CMP后清洗机

简要描述:GNP CLEANER-812L型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(8“~12")晶圆。

  • 产品型号:GNP CLEANER-812L
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 228

详细介绍

1. 产品概述

适用晶圆尺寸:200mm(8")和300mm(12")

配置:独立配置4个清洗工位,DIW刀预清洗,2个双面滚刷清洗,N2吹旋转漂洗干燥(可选分离式QDR)清洁器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm

电刷尺寸:70(外径)32(内径)320()毫米

预清洗工位:DIW喷雾清洗,工位间DIW帷幕清洗

辊刷工位

化学:nh4oh<1%)或DIW

刷型:双面PVA

转速:<满量程的±2%范围30 ~ 300rpm

化学品供应:4个喷嘴和通过刷子

可用化学:2化学[NH4OH]            

化学品流量:满量程< 1L/min

DI流量:满量程<5L/min

转站

旋转速度:2500/DIW冲洗/ N2

控制工艺:自动上片,自动顺序,湿进/干出

程序控制:PC & PC触摸监控,程序可编程,计算机网络可比


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