欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  3 CVD  >  Genesis ALD原子层沉积ALD

原子层沉积ALD

简要描述:用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

  • 产品型号:Genesis ALD
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 195

详细介绍

1.市场和应用:

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

各种类型锂离子和固态电池的阴和阳的钝化

用于柔性太阳能电池的导电层和封装

用于柔性电子产品的防潮层

2.材料选择:

多种 ALD 材料可供选择,可满足您的要求。 多年来,Beneq 一直是用于研发和工业生产的卷对卷原子层沉积系统的先驱。我们的常用材料包括 Al₂O₃TiO₂ZnOZnSSiO₂ 或可根据要求提供的任何其他材料。

3.功能亮点

卷筒纸宽度:大420mm

ALD镀膜厚度:大100nm

动态沉积速率 Al2O3): 10 nm *m/min

过程温度:高 250°C

4.定制:

在大420mm的卷筒纸宽度下,Genesis ALD适用于实验室研发或中试规模生产。 设计用于将 ALD 薄膜处理到聚合物或金属等柔性基材上。通过与我们的合作伙伴 E+R Group合作,我们为客户提供更宽的卷筒纸和生产线集成的可选设计。


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7