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离子束沉积设备

简要描述:适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积
数据存储制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 离子束沉积 (IBD) 系统大幅提高 80Gb/in2 传感器的产量,并满足未来 TFMH 设备制造的需求。

  • 产品型号:NEXUS IBD
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 171

详细介绍

1.产品概述:

NEXUS IBD是由VEECO研发的第三代NEXUS® 离子束沉积 (IBD),适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积。

2.产品原理:

离子束辅助沉积的原理是在离子束的作用下,将气态或液态物质引导到材料表面,通过物理或化学反应,形成固态薄膜。 离子束辅助沉积具有沉积温度低、薄膜质量高、可控制性好等优点,因此在光电、电子、能源等领域得到广泛应用。

3.产品优势:

数据存储制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 离子束沉积 (IBD) 系统大幅提高 80Gb/in2 传感器的产量,并满足未来 TFMH 设备制造的需求。

支持各种设备,从当的 CIP 到高 CPP 设备

MRAM 应用以及 GMR 和 TMR 薄膜磁头的理想选择

改进了所有准直沉积应用的 CD 控制

通过沉积羽流的对称到达获得更锐利的起飞角度

平台易于与 PVD、IBE 和其他技术集成




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