详细介绍
1 产品概述:
新型离子枪结合了空心阳极离子枪和磁控管离子枪的优势,通过结构设计和技术集成,实现了对材料表面高效、精确的处理能力。该设备集成了离子源、加速电极、聚焦透镜和控制电源等关键部件,能够产生并发射高能量、高密度的离子束,满足各种复杂工艺需求。
2 设备用途:
薄膜沉积:新型离子枪可用于在基材上沉积各种金属、非金属及合金薄膜,如钨超细结构薄膜。这些薄膜在电子器件、光学元件、太阳能电池等领域具有广泛应用。
表面清洁与刻蚀:通过离子束的轰击作用,可以去除材料表面的污染物、氧化物等杂质,实现表面清洁。同时,离子束还能对表面进行精细刻蚀,形成所需的微纳结构。
深度分析:在样品表面分析中,新型离子枪可用于表面刻蚀和深度剖析,揭示材料内部的成分和结构信息。
涂层与改性:利用离子束的沉积和改性作用,可以在材料表面形成具有特定功能的涂层,如防腐、耐磨、导电等涂层。
3 设备特点
高效性:新型离子枪结合了空心阳极离子枪和磁控管离子枪的优点,具有更高的离子束能量密度和更快的物料反应速度,从而提高了处理效率。
精确性:通过精确控制离子束的能量、束斑大小和扫描路径,可以实现对材料表面的精细处理,满足高精度加工需求。
多功能性:该设备不仅可用于薄膜沉积、表面清洁与刻蚀等传统应用,还可拓展至表面改性、深度分析等新兴领域。
4 技术参数和特点:
可以简单地进行粒径1nm以下的钨超微粒子的包覆。
通过使用Ar离子的离子束溅射法沉积的钨膜的粒径为0.2nm~0.5nm。即使在700,000倍SEM观察中也没有观察到颗粒感,非常适合高倍率观察。样品表面温度在50℃以下,因此可以进行热损伤小的涂层。可以在短时间内涂层。(真空度达到1Pa后所需时间3~5分钟)
可以绕入,狭窄的间隙也可以进行涂层和附着力优良的涂层。可以得到不易附着污染的涂膜。目标,标准准备了钨,根据您的要求可以换成各种目标材料。
可选:也可以蚀刻。
离子枪外加电压 | 200 V |
目标施加电压 | 1.4 kV |
工作电流 | 20mA |
工作真空度 | 1 Pa |
目标尺寸 | 50 mm |
试样尺寸 | Φ32 x t15 mm 以内 |
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