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新型离子枪

简要描述:通过采用结合空心阳极离子枪和磁控管离子枪的新型离子枪,可实现了超精细结构的薄膜。

  • 产品型号:ESC-101
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 144

详细介绍

1 产品概述:

   新型离子枪结合了空心阳极离子枪和磁控管离子枪的优势,通过结构设计和技术集成,实现了对材料表面高效、精确的处理能力。该设备集成了离子源、加速电极、聚焦透镜和控制电源等关键部件,能够产生并发射高能量、高密度的离子束,满足各种复杂工艺需求。

2 设备用途:

  1. 薄膜沉积:新型离子枪可用于在基材上沉积各种金属、非金属及合金薄膜,如钨超细结构薄膜。这些薄膜在电子器件、光学元件、太阳能电池等领域具有广泛应用。

  2. 表面清洁与刻蚀:通过离子束的轰击作用,可以去除材料表面的污染物、氧化物等杂质,实现表面清洁。同时,离子束还能对表面进行精细刻蚀,形成所需的微纳结构。

  3. 深度分析:在样品表面分析中,新型离子枪可用于表面刻蚀和深度剖析,揭示材料内部的成分和结构信息。

  4. 涂层与改性:利用离子束的沉积和改性作用,可以在材料表面形成具有特定功能的涂层,如防腐、耐磨、导电等涂层。

3 设备特点

  高效性:新型离子枪结合了空心阳极离子枪和磁控管离子枪的优点,具有更高的离子束能量密度和更快的物料反应速度,从而提高了处理效率。

  精确性:通过精确控制离子束的能量、束斑大小和扫描路径,可以实现对材料表面的精细处理,满足高精度加工需求。

  多功能性:该设备不仅可用于薄膜沉积、表面清洁与刻蚀等传统应用,还可拓展至表面改性、深度分析等新兴领域。
4 技术参数和特点:

可以简单地进行粒径1nm以下的钨超微粒子的包覆。

   通过使用Ar离子的离子束溅射法沉积的钨膜的粒径为0.2nm0.5nm。即使在700,000SEM观察中也没有观察到颗粒感,非常适合高倍率观察。样品表面温度在50℃以下,因此可以进行热损伤小的涂层。可以在短时间内涂层。(真空度达到1Pa后所需时间35分钟)

  可以绕入,狭窄的间隙也可以进行涂层和附着力优良的涂层。可以得到不易附着污染的涂膜。目标,标准准备了钨,根据您的要求可以换成各种目标材料。

   可选:也可以蚀刻。

离子枪外加电压

200 V

目标施加电压

1.4 kV

工作电流

20mA

工作真空度

1 Pa

目标尺寸

50 mm

试样尺寸

Φ32 t15 mm 以内


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