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涂胶和显影机

简要描述:ACS200 Gen3 涂胶和显影机是创新组件和经过生产验证的组件结合的成功结果。它具有多达 4 个湿法工艺模块和最多 19 块板的能力,非常适合大批量生产 (HVM) 的需求。模块和技术的配置灵活性不仅满足了先进封装、MEMS和LED市场的需求,而且还弥合了研发和HVM之间的差距。

  • 产品型号:ACS200 Gen3
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-27
  • 访  问  量: 286

详细介绍

一 ACS200 Gen3 涂布机和显影剂
SUSS ACS200 Gen3 平台是创新组件和经过生产验证的组件结合的成功结果。它具有多达 4 个湿法工艺模块和最多 19 块板的能力,非常适合大批量生产 (HVM) 的需求。模块和技术的配置灵活性不仅满足了先进封装、MEMS和LED市场的需求,而且还弥合了研发和HVM之间的差距。
该平台的增强版本ACS200 Gen3 TE通过多达6个旋转和喷雾模块以及一个集成喷墨模块,进一步提高了灵活性。
多功能底架提供了多种配置可能性,例如,多达 4 个湿法工艺模块(涂布机和/或显影剂),最多可容纳 19 块板,或者 2 个湿法工艺模块和 2 个喷涂机模块,最多可容纳 13 块板。
ACS200 Gen3 可以在每个湿法工艺模块上堆叠多达 3 块板,在第 5 个模块中最多堆叠 7 块板,从而实现了同类产品中最大的模块数量。
不同的 I/O 系统可满足任何需求。2x I/O满足研发要求,而新设计的自动装载盒站可实现连续运行,而无需停止系统进行盒更换。
涂布机碗提供开放式碗涂层和 GYRSET® 封闭式涂层技术。转鼓设计提供了使用一次性工艺转鼓进行操作的可能性,而不会影响流量动态或排气流量。由于转鼓易于清洁并减少了维护时间,因此它简化了使用不方便或不寻常材料的操作。ACS200 Gen3 可以在每个涂布机模块的 2 个不同的分配臂上分离溶剂和抗蚀剂线,因此遵循了提供出色产量的道路。
对于开发应用,可以配置水性或溶剂显影剂模块。有多种不同的喷嘴类型可供选择,以满足任何工艺要求。
与SUSS曝光系统的直接连接可提高产量,因为完整的光刻工艺流程无需操作员干预。
可选的过滤风扇单元和工具的温度/湿度控制可实现工艺稳定性、可重复性,并最终实现高产量。
二、企业简介:
深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。




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