详细介绍
Beneq C2R 是我们集群兼容设备系列的空间 ALD 成员。
Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积 (PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺,Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择,甚至可达几微米。
Beneq C2R 为光学镀膜和阻隔层等工业应用中的高性能原子层沉积 (ALD) 提供最佳解决方案。
当速度、成本、低工艺温度和尽可能高的薄膜质量是驱动因素时,Beneq C2R 是理想的产品。
超高沉积速率,高达每小时几微米
批量 PEALD 工艺,适用于多达 7 个 200 mm 晶圆
适用于厚度达 30 mm 的镜头和其他 3D 基板
膜厚均匀性高,适用于要求苛刻的光学镀膜应用
可配备负载锁或晶圆自动化。
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信赖的 MX400 传输模块的自动化选项。自动化服务包括:
Brooks MX400 基于集群的模块
双臂扫地机器人
样品对准器
可选预热和冷却
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