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超快速、高精度空间原子层沉积镀膜

简要描述:超快速、高精度空间原子层沉积镀膜
Beneq C2R 是我们集群兼容设备系列的空间 ALD 成员。

Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积 (PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺,Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择,甚至可达几微米。

  • 产品型号:贝内克 C2R
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-12
  • 访  问  量: 185

详细介绍

超快速、高精度空间原子层沉积镀膜

Beneq C2R 是我们集群兼容设备系列的空间 ALD 成员。

Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积 (PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺,Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择,甚至可达几微米。

Beneq C2R 为光学镀膜和阻隔层等工业应用中的高性能原子层沉积 (ALD) 提供最佳解决方案。

当速度、成本、低工艺温度和尽可能高的薄膜质量是驱动因素时,Beneq C2R 是理想的产品。

技术亮点

  • 超高沉积速率,高达每小时几微米

  • 批量 PEALD 工艺,适用于多达 7 个 200 mm 晶圆

  • 适用于厚度达 30 mm 的镜头和其他 3D 基板

  • 膜厚均匀性高,适用于要求苛刻的光学镀膜应用

  • 可配备负载锁或晶圆自动化。

自动化选项

Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信赖的 MX400 传输模块的自动化选项。自动化服务包括:

  • Brooks MX400 基于集群的模块

  • 双臂扫地机器人

  • 样品对准器

  • 可选预热和冷却





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