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激光掩模光刻机

简要描述:ULTRA激光掩模光刻机 是专门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备,包括微控制器、电源管理、LED、物联网 (IoT) 和 MEMS。

ULTRA 是一种经济型光刻机解决方案,具有高吞吐量、精度和结构均匀性以及极其精确的对准所需的所有特性和功能。标准配置包括全自动掩模处理、Zerodur® 平台、低失真光学元件和高精度位置控制等功能。

  • 产品型号:ULTRA
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-04
  • 访  问  量: 170

详细介绍

产品概述:

ULTRA半导体光掩模光刻机是门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备,包括微控制器、电源管理、LED、物联网 (IoT) 和 MEMS。

操作


用户界面(软件)

 

半兼容 GUI

大写入区域

228 x 228 mm² (可根据要求提供其他尺寸)

基板尺寸

4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩(可根据要求提供更大的和其他基材)



 

系统特点


光学

0.9 NA物镜
低失真紫外光学元件
自动校准程序

激光

355nm波长的高功率二管泵浦固体激光器

对焦系统

实时光学自动对焦

对准

摄像系统
失真补偿
全局和逐场对准
边缘检测器

数据路径

 

实时压缩
可扩展的硬件概念
输入格式:所有标准格式,例如 GDSII 和 Jobdeck

空间光调制器

 

频率 350 kHz
数据速率 2.4 GB/s

自动化

 

全自动口罩处理,带两个大 9 英寸的输送站;可选的 SECS/GEM 协议



 

系统尺寸

 

系统 / 电子机架

 

宽度 [mm]

2995 / 800

 

深度 [mm]

1652 / 650

 

高度 [mm]

2102 / 1800

 

重量 [kg]

3400 / 180



 

安装要求


电气

400 VAC ± 5%,50/60 Hz,16A,3 相

压缩空气

7 - 10 bar (不含油或其他残留物)

 




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