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碳化硅高温氧化炉

简要描述:VERIC A6151A 碳化硅高温氧化炉,适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备,最高温度 2000℃,升温速率可达 100℃/min,石墨电阻加热,工艺腔室洁净。

  • 产品型号:VERIC A6151A
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 283

详细介绍

1. 产品概述

VERIC A6151A 碳化硅高温退火炉,适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备。

2. 设备用途/原理

VERIC A6151A 碳化硅高温退火炉适用于碳化硅高温激活 & 退火的设备高温度 2000℃,升温速率可达 100℃/min石墨电阻加热,工艺腔室洁净自动装片,Cassette to CassetteSEMI S2/S6 认证

3. 设备特点

晶圆尺寸 4/6 英寸兼容适用材料 碳化硅、氮化铝适用工艺 注入后激活、Ar 退火、Ar/H2 退火、沟槽平滑适用域 科研、化合物半导体百科:退火炉的原理‌主要涉及通过控制加热和冷却过程中的温度和时间,以改变半导体材料的性质或结构,从而实现对材料的精确控制和优化处理。这种设备通常被称为RTP(Rapid Thermal Processing)快速退火炉。RTP退火炉的关键特点包括快速升温、保持温度、冷却阶段以及气体控制。

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