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CMP后清洗机

简要描述:GNP CLEANER-412R型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(4“~12“)晶圆。

  • 产品型号:GNP CLEANER-412R
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-04
  • 访  问  量: 202

详细介绍

1. 基本参数

适用晶圆尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")

配置:输入喷淋清洗,两个双面刷清洗和旋转漂洗干燥(可选:分离QDR)

清洗机尺寸:1610w 1260d 1640hmm电刷尺寸:070(外径)031(内径)170()毫米

预清洗工位:DIW喷雾清洗,工位间DIW帷幕清洗

辊刷工位

化学:nh4ohDIW

刷头型式:PVA刷头,可同时清洗晶圆片的正反面

刷位调节:手动控制(可用刷隙范围:-10mm ~ 2mm)

转速:<满量程的±5%范围30 ~ 400rpm

化学品供应:4个喷嘴和通过毛刷

可用化学品:2个化学品[NH4OH]

化学和DI流量:<满量程的±5%

转站

选项:超高速扫描

旋转速度:最高2500/DI漂洗/ N2

控制工艺流程:手动加载,自动顺序,湿/干液晶触摸屏显示器,程序控制PLC式。



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