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有掩膜光刻机

简要描述:VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机为光掩模(0.8至1.4 m)的高通量图案化而定制。VPG1400是我们专为显示行业设计的最大的系统。它是平板显示器 (FPD) 应用的好的选择,例如 TFT 阵列、彩色滤光片和 ITO。这些工具还用于先进封装、半导体、LED 和触摸屏应用的工业大面积光掩模应用。

  • 产品型号:VPG 800 / VPG 1400
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-27
  • 访  问  量: 196

详细介绍

VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机为光掩模(0.8至1.4 m)的高通量图案化而定制。VPG1400是我们专为显示行业设计的最大的系统。它是平板显示器 (FPD) 应用的好的选择,例如 TFT 阵列、彩色滤光片和 ITO。这些工具还用于先进封装、半导体、LED 和触摸屏应用的工业大面积光掩模应用。

VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机

大光刻面积VPG+:技术的领航
大光刻面积的VPG  +维持原VPG系列为根基再进化,使其更加出色。VPG于2007年推出;  是拥有专量产型曝光技术光刻系统,可靠和经济的解决方案,适用于要求严谨的掩膜板制造。

速度更快:超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研发的高速光学调制器,在速度下,曝光时间可以达到原始VPG的三倍!强化了曝光动能与数据传输路径。

功能和选项:配备性能
VPG  +可配置各种平台尺寸,最大可达1400mmx1400mm。  该系统具有355nm波长的紫外激光源,空气轴承平台,半自动或全自动入料器,用于基板装载的温控环境室。

应用:光罩制造和直接写入
大光刻面积的VPG  +系统适用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light  emitting diodes, touch panel以及life  science应用。出色的图像质量和对位功能,也非常适合在大面积执行多层套刻直写。

VPG+  最大型的设备VPG+  1400专门针对显示器相关行业应用:是所有VPG+系列中功能具有极其完善的温控环境室,差分干涉仪和先进的mura校正以及面板间距优化功能。




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