详细介绍
1.产品概述:
SUSS MicroTecs ASx 系列为加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技术节点提供了先进的烘烤、显影和清洁方法。其可靠性、稳定性和高性能使平台能够满足无损加工掩模的要求,用于 248 nm 和 193 nm 光刻工艺。
2.产品工艺:
晶圆尺寸:4、6、8英寸
小片的用工具
符合 SEMI S2、S8、S13
CE认证
符合欧洲标准和机械指令 2006/42/EC、EMC- 2004/108/EC 和低电压指令 2006/95/EC
DIN ISO 14.644 2
SECS/GEM 200/300 mm 工厂自动化标准接口
3.产品优势:
采用A+喷嘴在整个掩模上连续涂布介质,使显影的冲击力小化。
显影剂主动脱气,可防止微气泡的产生,实现低的缺陷计数。
将PEB升为含APB的集群设备
高效的化学过滤(胺/酸)和精确的温、湿度控制
含SMIF装/卸载的全自动化
增强的工艺控制与监测功能
与曝光后烘烤系统APB9500结合,获得佳效果
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